紫外臭氧清洗機的原理和優(yōu)勢

紫外UV臭氧清洗機的清洗是一個(gè)干燥的過(guò)程。而紫外臭氧清洗機內會(huì )配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統內分解，不會(huì )造成清潔室內的臭氧含量過(guò)高從而產(chǎn)生危害。紫外臭氧清洗機也可配置成連續加載的清洗線(xiàn)，并可與DI水沖洗系統耦合，清除表面的顆粒。

紫外UV臭氧清洗機的工作原理，紫外線(xiàn)(UV)燈照射分為兩種波長(cháng)(185和254 nm)。每個(gè)波長(cháng)對化學(xué)反應都有不同的作用。185nm紫外線(xiàn)將氧分子O2解離成三聯(lián)體原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)與氧分子氧O2結合生成臭氧O3。

另一方面，254納米紫外線(xiàn)分解臭氧O3，形成分子氧O2和單線(xiàn)態(tài)原子氧O(1D)。單線(xiàn)態(tài)原子氧(1D)具有較強的氧化能力，與基體表面發(fā)生反應。在這個(gè)反應中，表面被氧化在無(wú)機基板上，如硅片。在有機材料中，分子的鏈斷裂發(fā)生，有機殘留物污染物作為揮發(fā)性副產(chǎn)物分子如CO2、H2O和O2被輕易地去除，從而能夠有效地清除無(wú)機基材表面的有機污染物。

紫外UV臭氧清洗機應用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應用?？梢杂糜诠杵退芰习b的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進(jìn)行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類(lèi)材質(zhì)表面的有機污染物清洗。